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特殊設備

特殊設備

薄膜蒸留装置 (短行程蒸留/SPD) >>詳細

「熱に不安定な化合物」や「高沸点化合物」の蒸留を得意とする連続蒸留可能な薄膜蒸留装置です。 テストから生産スケールまでスムーズにスケールアップ可能です。

昇華精製装置 >>詳細

高温、高真空下において昇華性を有する化合物の精製を得意とする装置です。特にカラムクロマトでは精製し難い有機半導体、有機EL材料等のの精製を行うことが出来ます。

テフロンコーティング反応装置   オゾン酸化、フッ素化反応に利用可

耐食性・洗浄性に優れた帯電防止テフロンコーティング仕様(内容量150L,攪拌翼は上下2段)、さらに低温域での使用可能温度範囲(-100~120℃)が広いという特徴を持った反応装置です。
これらの特性を生かし、オゾン(max 130g/h)酸化、有機金属試薬を使用した反応、フッ素化等の反応を行うことができます。

低温リニア温度制御反応装置   シビアな温度制御を実現

シリコンオイル系を熱媒体とした、単一媒体温度制御(-70~120℃)方式を採用し、SUS製の1000L反応缶に上下2段の大型攪拌翼を備えた反応装置です。

ジャケットの媒体を入れ替えることなく、プログラムによる温度制御(カスケード制御)を行うことができるため、温度勾配を掛けた冷却結晶化などで利用できます。