製造設備・分析装置FACILITY
低分子医薬LOW-MOLECULAR MEDICINES
出雲工場（第一工場）製造設備
| 装置名称 | 材質/仕様 | 容量等 | 基数 | 備考 |
|---|---|---|---|---|
| 反応缶 | SUS | 2,000 L | 1 | 反応温度範囲：－15～130℃ |
| GL | 6,000 L | 2 | ||
| 4,000 L | 3 | |||
| 2,000 L | 2 | |||
| 1,000 L | 2 | |||
| 200 L | 3 | |||
| SUS | 500 L | 1 | 超低温対応 反応温度範囲：－70～130℃ |
|
| GL | 1,200 L | 1 | ||
| 700 L | 1 | |||
| SUS | 1,000 L | 1 | 高温対応 反応温度範囲：－15～250℃ |
|
| オートクレーブ | SUS | 1,000 L | 1 | 圧力範囲：～0.9 MPa |
| GL | 2,000 L | 1 | 圧力範囲：～0.5 MPa | |
| カラムクロマト装置 | SUS | 300 L | 1 | 圧力範囲：0.2～0.5 MPa |
| 250 L | 1 | |||
| 140 L | 1 | |||
| 遠心分離機 | ハステロイ | 42 inch | 2 | 底排型連続式 |
| 30 inch | 1 | 移動式 | ||
| SUS | 30 inch | 1 | 移動式 | |
| 濾過器 （移動式） |
SUS GL ハステロイ PFA |
50～500 L | 複数 | 加圧保温対応型等各種 |
| コニカルドライヤー | SUS | 500 L | 2 | 乾燥温度範囲：20～110℃ |
| GL | 1,000 L | 3 | ||
| 500 L | 1 | |||
| 乾燥機 | - | 200 L | 2 | 棚段式減圧乾燥機（100 Pa） |
| ロータリーエバポレータ | Glass | 50 L | 1 | |
| 20 L | 1 | |||
| 精製水製造装置 | RO＋EDI | 1 | 製造能力：500 L/h タンク容量：3.0 m3 |
|
| クリーンルーム | ISO14644 Class8 | 1 | GL200 L晶析缶を設置 | |
| 1 | GL1,000 L晶析缶を設置 | |||
| 1 | GL4,000 L晶析缶を設置 | |||
| 1 | GL6,000 L晶析缶を設置 | |||
| グローブボックス | SUS | - | 1 | ISO14644 Class8 |
出雲工場（第一工場）精製設備
| 装置名称 | 材質/仕様 | 容量等 | 基数 | 備考 |
|---|---|---|---|---|
| クリーンルーム | ISO14644 Class8 | 4 | ||
| 溶解缶 | GL | 200 L | 1 | 温度範囲：－15～130℃ |
| 晶析缶 | GL | 200 L | 1 | 温度範囲：－15～110℃ |
| 乾燥器 | - | 200 L | 1 | 棚段式減圧乾燥機（100 Pa） |
| 溶解缶 | GL | 1,000 L | 1 | 温度範囲：－15～130℃ |
| 晶析缶 | GL | 1,000 L | 1 | 温度範囲：－15～130℃ |
| コニカルドライヤ― | GL | 500 L | 1 | 乾燥温度範囲：20～110℃ |
| 溶解缶 | GL | 4,000 L | 1 | 温度範囲：30～100℃ |
| 晶析缶 | GL | 4,000 L | 1 | 温度範囲：－15～100℃ |
| 遠心分離機 | ハステロイ | 42 inch | 1 | 底排型連続式 |
| コニカルドライヤ― | GL | 1,500 L | 1 | 乾燥温度範囲：20～110℃ |
| 溶解缶 | GL | 4,000 L | 1 | 温度範囲：40～100℃ |
| 晶析缶 | GL | 6,000 L | 1 | 温度範囲：－10～100℃ |
| 遠心分離機 | ハステロイ | 42 inch | 1 | 底排型連続式 |
| コニカルドライヤ― | GL | 2,000 L | 1 | 乾燥温度範囲：～110℃ |
出雲工場（第一工場）粗砕・粉砕設備
| 装置名称 | 材質/仕様 | 容量等 | 基数 | 備考 |
|---|---|---|---|---|
| クリーンルーム | ISO14644 Class8 | 1 | 低湿度対応 | |
| 2 | ||||
| 粉砕機 | ≪粗砕機≫ | |||
| クイック・ミル（カッター＋スクリーン式）（材質：SUS） | ||||
| ≪気流粉砕≫※窒素気流下粉砕可 | ||||
| ジェット・オー・ミル JOM-0101 （材質：SUS, 0.5～2 kg/h） カウンタージェットミル 140AFG （材質：SUS, 5～30 kg/h） スパイラルジェットミル 140AS （材質：SUS, 3～20 kg/h） |
||||
| ≪機械粉砕≫ | ||||
| ラボミルLM-05 （卓上のテスト機, 材質：SUS, 10 g～テスト可能） ハンマーミル MSD-1XS （材質：SUS, 5～30 kg/h, ハンマー周速最大130 m/s） ハンマーミル MSD-3XS （材質：SUS, 20～80 kg/h, ハンマー周速最大130 m/s） ピンミル 100UPZ （材質：SUS, 15～20 kg/h） ※窒素気流下粉砕可 |
||||
市川研究所
| 装置名称 | 材質/仕様 | 容量等 | 基数 | 備考 |
|---|---|---|---|---|
| 反応缶 | SUS | 1,000 L | 1 | 単一熱冷媒体方式 反応温度範囲：－70～120℃ |
| 500 L | 1 | 反応温度範囲：－15～120℃ | ||
| GL | 2,000 L | 2 | 反応温度範囲：－15～120℃ | |
| 1,000 L | 2 | |||
| 500 L | 1 | |||
| カラムクロマト装置 | SUS | 120 L | 1 | 圧力範囲：0.2～0.3 MPa |
| 110 L | 1 | |||
| 遠心分離機 （移動式） |
SUS | 24 inch | 1 | テフロンコーティング |
| 濾過器 （移動式） |
SUS/GL | 60～200 L | 複数 | 加圧対応型等各種 |
| コニカルドライヤ― | GL | 300 L | 1 | 乾燥温度範囲：室温～110℃ |
| 500 L | 1 | |||
| 超低温反応装置 | テフロンライニング | 240 L | 1 | 反応温度範囲：－80～120℃ |
| オゾン発生装置 | PSA型 | - | 1 | 発生量：～35 g/h 発生濃度：75 g/m3（N） ガス流量：8 L/min（N） |
| - | - | 1 | 発生量：～160 g/h 発生濃度：130 g/m3（N） ガス流量：20 L/min（N） |